なぜ真空赤外線加熱が半製品の製造に適しているのか
正直言って、従来の乾燥装置は不便です。大きな対流式オーブンや有害な化学溶剤を使わざるを得ないため、全体として時代遅れの感じがします。だからこそ、私たちは赤外線技術を採用しているのです。これはよりクリーンで、より迅速であり、また、今日私たちが目指している「グリーン」基準にも合致します。
真空状態での動作原理
真空環境というのは、空気が存在しない状態です。空気がないと、対流も起こりません。部品を乾燥させるために「部屋全体を温める」という方法は使えません。
代わりに、放射熱を利用します。高純度の石英や特別なフィラメントを使って、短波長の放射を発生させます。このエネルギーはチャンバーの壁を温めるのに時間を費やすことなく、直接基板に届きます。
非常に迅速です。数時間かかっていた硬化プロセスが数分ですみます。
有害物質の排除
長年にわたり、シリコンを溶かしたり硬化させる際に、シリコンが焼けないようにするには、鉛を含むフラックスやVOCを使用するしかありませんでした。誰もそのようなものを扱いたくありません。
しかし、赤外線を使えば、無鉛はんだやポリマーに適した温度を正確に設定でき、繊細なチップが破損する心配もありません。さらに、電気エネルギーと光子だけを利用するため、燃焼による副産物は一切ありません。CO2もNOxも出ません。まさにクリーンルームにふさわしい処理方法です。
注意点とその解決策
もちろん、全てが完璧というわけではありません。高出力の赤外線ランプは、真空密封部に大きな負荷をかけます。冷却装置を考慮せずに高出力のランプを使用すると、問題が発生します。過熱により真空が漏れ、結果として製品が汚染されてしまいます。
これを避けるために、PIDコントローラーや高速応答型の温度計を使用します。これにより、温度が過剰に上昇するのを防ぎ、密封部を守ることができます。
このトレードオフは納得のいくものです。占めるスペースが大幅に減り、空気を温めるためのコストも削減できます。これにより、全体の製造プロセスがより現代的になります。