なぜクリーンルームで赤外線照射を採用したのか
半導体製造施設で働くとき、「清潔さ」は単なる目標ではなく、すべてを決定づける要素です。ウェーハにほんの少しのほこりや残留物でもあってはならないのです。
長年にわたり、一般的には対流式オーブンが使われてきました。しかし、問題点があります。対流式オーブンは単に熱い空気を循環させるだけです。その空気には微粒子が含まれており、巨大な金属容器を保温するために必要な電力も膨大です。
そこで私たちは赤外線ヒーターを採用しました。対流式オーブンとは異なり、赤外線ヒーターは空気を加熱するのではなく、エネルギーを直接基材に送り込みます。
実際の動作原理
寒い日に太陽の下に立つのを想像してみてください。最初に空気が温かくなるのを感じるのではなく、すぐに肌に熱が伝わってきます。これと同じ仕組みです。放射線が材料に当たり、分子が振動し、すぐに熱が発生します。
非常に速いです。本当に速いのです。
熱い空気をウェーハに当てないため、交差汚染の心配もほとんどありません。また、地球に与える負担もずっと少ないです。有害なVOCを排出する古い燃料式システムを廃止したおかげで、環境監査の負担も大幅に軽減されました。
注意点
通常、短波または中波の赤外線ランプを使用します。フォトレジストを数秒以内に乾燥させたり、樹脂を硬化させたりする必要がある場合は、短波が最適です。
ただし、注意が必要です。無闇に出力を上げてしまうと、「ホットスポット」ができたり、最悪の場合、基材が焼けてしまったりします。ランプとウェーハの距離を適切に調整する必要があります。私たちはPIDコントローラーや精密センサーを使って、高価な部品が壊れないように調整しています。
ビジネス上のメリット
最も良い点は、電気代が安くなることです。箱の中の空間を温めるために無駄にエネルギーを消費することがなくなり、そのエネルギーを直接部品に使えるのです。
ほとんどの従来の対流式装置と比べて、交換するのも簡単です。床面積を節約でき、エネルギーコストも削減できます。また、グローバルな供給チェーンの規則に従えば、特別なことを考える必要もありません。