なぜクリーンルーム用のオーブンで強制送風装置の代わりに赤外線を使うのか？ 半導体製造のプロセスを進めていく上で、最も重要なのは「どれだけ時間を無駄にしているか」という点です。 ほとんどの人は強制送風方式に慣れています。しかし、問題は対流の速度が遅いということです。つまり、巨大な空気の箱を温めて、その分子がやっとワークピースに熱を伝えるのを待つ必要があるのです。これは非常に非効率的です。 一方、赤外線を使えば、その中間段階を省略できます。部屋全体を温めるのではなく、直接基板にエネルギーを照射するのです。 処理速度の向上 通常のクリーンルーム用オーブンでは、この煩わしい温度上昇の遅れに悩まされます。空気が適切な温度になるのを待ち、さらにその熱が部品に伝わるのを待つ必要があります。これは時間の無駄遣いです。 赤外線ヒーターなら、即座に目的の場所に熱を届けることができます。 30分かかる作業を5分に短縮できると想像してみてください。大量生産を行っている場合、これは大きなメリットです。より大きなクリーンルームを作ることなく、より多くの作業を1日で完了できます。 難しい点 ただ単にファンを取り除いて赤外線ランプを取り付ければ済むわけではありません。熱負荷を再考する必要があります。 赤外線は非常に集中したエネルギーを持っているため、反射器の位置が少しでもずれると、熱点が発生しやすくなります。また、温度が急速に変化するにつれて、それに対応できるPIDコントローラーも必要です。 一定の室温を保つだけの空気式オーブンとは異なり、赤外線は距離が重要です。エミッターがウェハーに近すぎると、ウェハーが焼けてしまいます。精度が少し必要ですが、その分のメリットは大きいです。 清潔さの維持 最良な点は、もう乱流が発生しないことです。 高速ファンは、ほこりやゴミを舞い上げる原因となります。一方、赤外線は静的なので、そこに留まったまま効果を発揮します。 つまり、HEPAフィルターの負担も大幅に軽減されます。より静かで清潔な環境が実現し、処理速度も向上します。生産量を増やし、リードタイムを短縮したい場合、これが最善の方法です。