Di lantai pengeluaran yang canggih ini, wafer yang baru selesai proses pencucian tidak boleh mempunyai sebarang kesan air walaupun dalam ukuran mikron sahaja. Ketuhar konvektif pula berusaha untuk mengekalkan suhu yang seragam di seluruh permukaan wafer; setiap usaha tersebut akan mempengaruhi kualiti hasil pengeluaran. Pengeringan menggunakan sinar inframerah pula mengubah cara pengiraan ini.
Apa yang benar-benar penting dari segi teknikalnya
Sinar inframerah bertindak secara langsung pada air yang ada pada permukaan wafer, lalu memanaskan permukaan wafer tanpa memerlukan tenaga tambahan untuk memanaskan udara di dalam bilik pengeringan. Ini membolehkan suhu di seluruh permukaan wafer kekal seragam pada tahap ±0.1°C – tiada lagi masalah berkaitan perbezaan suhu antara bahagian tepi dan tengah wafer seperti yang berlaku pada sistem konvektif. Sinar inframerah berfrekuensi rendah memberikan tenaga yang cepat dan terkawal, sesuai untuk proses pembakaran fotoresist. Sinar inframerah berfrekuensi sederhana pula digunakan apabila diperlukan suhu yang lebih tinggi, tanpa menyebabkan masalah berlebihan.
Selain itu, sistem ini direka untuk digunakan di persekitaran makmal bersih, kelas 1–100: tiada penghasilan zarah kontaminan, komponen yang digunakan adalah jenis kuarsa atau halogen yang berkualiti tinggi, dan reka bentuknya memastikan aliran udara tetap terkawal. Kepastian prestasi sistem ini dapat dilihat melalui perbezaan suhu antara setiap sesi pengeluaran, yang kurang daripada 0.3°C.
Mengapa ia sesuai untuk proses litografi dan pemprosesan basah
Dalam proses litografi dan pemprosesan basah, masa yang diperlukan untuk menyelesaikan proses serta kawalan kecacatan sangat penting. Pengeringan menggunakan sinar inframerah mempercepatkan proses pengeringan wafer, menggunakan lebih sedikit tenaga untuk setiap batch, dan membolehkan suhu kekal stabil tanpa berlaku kelewatan. Ini seterusnya memberikan prestasi yang konsisten dalam proses pembakaran fotoresist, mengurangkan keperluan untuk memproses semula wafer, dan memastikan suhu yang stabil untuk pelbagai jenis produk.
Yang paling penting, sistem ini direka untuk beroperasi 24/7, tahun demi tahun – komponennya tahan lama, dan prestasinya tetap konsisten walaupun selepas penyelenggaraan. Tiada risiko gangguan operasi yang tidak dirancang.
Butiran praktikal yang perlu dipertimbangkan
Pengeringan menggunakan sinar inframerah boleh disesuaikan dengan keperluan tertentu, namun perlu dipastikan beban haba yang dihasilkan sesuai dengan keperluan sistem. Saiznya memang kompak, tetapi jangan abaikan aspek penyejukan – keadaan persekitaran dan pengagihan tenaga juga perlu diambil kira. Kami akan menyesuaikan saiz pemanas dan sistem kawalan mengikut diameter wafer serta kelajuan pengeluaran anda. Proses penyesuaian ini memerlukan masa yang singkat agar kadar pemanasan dan masa pengeringan dapat disesuaikan dengan keperluan fotoresist yang digunakan.