なぜファブで赤外線加熱が熱風より優れているのか
ウェーハの乾燥について話しましょう。従来の方式では、熱風を使ってウェーハを加熱します。空気を温めて、その空気がウェーハを温めるというわけです。ただし、これは非常に時間がかかります。
高圧環境下では、この待ち時間が大きな問題となります。ウェーハは乾燥室の中でじっとしており、水分が付着したままです。その間、生産ラインの進行は遅くなります。これは莫大な時間の無駄です。
高速化のための近道
赤外線加熱は、空気を利用せずに直接電磁波を基板上に送り込みます。まるで寒い日に太陽の下に立っているようなものです。周囲の空気が凍えるほど冷たくても、すぐに暖かさを感じられます。これが放射熱です。送風機で部屋全体を温める必要はなく、直接表面の分子を温めることができます。これは非常に速いのです。そして、これによって作業プロセスが大幅に改善されます。
スペースの節約と生産性の向上
赤外線加熱を利用すると、必要なスペースが大幅に削減されます。熱風オーブンは大きく、均一な温度を保つために大量の空気と複雑なダクトが必要です。しかし、赤外線ランプは違います。目的の場所に配置するだけで済みます。クリーンルームのスペースを増やす必要もありません。サイクルタイムは数分から数秒に短縮されます。
注意点
もちろん、赤外線加熱がすべての問題を解決してくれるわけではありません。強力な力を持っている反面、時には過度に強力になりすぎることもあります。高強度のランプは、ごく狭い範囲内に大量の熱を生み出します。ウェーハの位置が正確でなければ、シリコンに熱点や熱応力が発生します。熱風なら許容範囲内ですが、赤外線加熱ではそうはいきません。PID制御装置や距離センサーを正確に調整しなければ、基板が損傷する可能性があります。
切り替えるメリット
ファブのアップグレードを検討しているなら、赤外線加熱が最適です。加熱要素を交換し、複雑な空気循環の仕組みを不要にできます。また、チャンバー全体を温めるためのエネルギーの無駄もなくなります。必要な部分だけを加熱するだけです。とても簡単です。