제조 현장에서는, 최종 세척 과정을 거친 웨이퍼에는 단 1마이크론의 오점도 허용되지 않습니다. 대류식 오븐은 기판 전체에 걸쳐 온도가 균일해지도록 노력하지만, 이러한 과정 자체가 생산성에 영향을 미칩니다. 반면, 적외선 건조 방식은 그러한 문제를 해결해줍니다.
기술적으로 중요한 점은 무엇인가? 적외선은 물분자를 직접 가열하여 웨이퍼 표면을 따뜻하게 만듭니다. 이로 인해 웨이퍼 전체의 온도가 ±0.1°C 이내로 균일해집니다. 대류식 시스템에서 발생하는 가장자리와 중앙 부분의 온도 차이 문제도 해결됩니다. 단파 적외선은 빠르고 정밀하게 에너지를 공급하여 포토레지스트에 손상을 주지 않으면서도 효과적인 건조가 가능합니다. 중파 적외선은 더 높은 온도가 필요할 때 사용됩니다.
또한, 이 시스템은 클린룸 환경에 맞게 설계되어 있습니다. 입자 발생이 전혀 없으며, 밀폐된 쿼츠나 할로겐 소자를 사용하여 공기 흐름을 조절합니다. 반복성도 매우 뛰어나서, 교대 근무시에도 온도 변동이 0.3°C 미만입니다.
왜 리소그래피 및 습식 처리에 적합한가? 리소그래피 및 습식 처리에서는 처리 시간과 결함 관리가 매우 중요합니다. 적외선 건조 방식은 웨이퍼를 더 빠르게 건조시키고, 각 배치당 에너지 소비도 줄입니다. 또한, 온도가 설정값을 정확히 유지하기 때문에 처리 범위가 넓어집니다. 이로 인해 일관된 포토레지스트 처리 성능을 얻을 수 있으며, 재작업도 줄어들고 제품의 온도 조건도 안정적입니다.
무엇보다도, 이 시스템은 연중무휴 24시간 작동할 수 있도록 설계되어 있습니다. 부품의 수명도 길고, 유지보수 후에도 반복성이 유지됩니다. 계획되지 않은 가동 중단도 없습니다.
실제 적용 시 고려해야 할 사항들 적외선 건조 시스템은 라인에 맞게 설치될 수 있지만, 열 부하를 고려하여 설계해야 합니다. 크기는 작지만, 열 방출을 소홀히 해서는 안 됩니다. 주변 환경과 전력 공급 상황도 고려해야 합니다.
우리는 고객의 장비 브랜드와 클린룸 환경을 고려하여 난방기 및 제어 회로를 설계합니다. 포토레지스트의 종류와 처리량에 맞게 조정됩니다. 시운전 시간도 짧아서, 포토레지스트 처리에 필요한 시간을 정확하게 설정할 수 있습니다.