Di pabrik pembuatan wafer, wafer yang baru saja selesai proses pencucian tidak boleh memiliki cacat berupa “watermark” sekecil satu mikron pun. Oven konveksi berusaha untuk menciptakan gradien suhu yang merata di seluruh permukaan wafer, dan setiap upaya tersebut mempengaruhi kualitas produk yang dihasilkan. Penggunaan sinar inframerah mengubah pola kerja oven tersebut.
Apa yang benar-benar penting secara teknis:
Sinar inframerah langsung mengenai permukaan wafer, sehingga permukaan wafer menjadi lebih hangat tanpa perlu memasukkan panas ke dalam udara di dalam ruangan. Hal ini memberikan keseragaman suhu pada tingkat wafer hingga ±0,1°C—tanpa adanya masalah yang sering terjadi pada sistem konveksi. Sinar inframerah berpanjang gelombang pendek memberikan energi yang cepat dan terkendali, sehingga cocok digunakan untuk proses pengeringan fotoresist. Sedangkan sinar inframerah berpanjang gelombang sedang digunakan ketika diperlukan suhu yang lebih tinggi, tanpa menyebabkan kelebihan panas.
Sistem ini dirancang khusus untuk lingkungan cleanroom kelas 1–100: tidak ada partikel yang dihasilkan, elemen pemanasnya terbuat dari kuarsa atau halogen, dan desainnya mencegah aliran udara yang tidak terkendali. Tingkat repetibilitasnya sangat tinggi, yaitu kurang dari 0,3°C antar sesi produksi.
Mengapa sistem ini cocok untuk proses litografi dan pemrosesan basah:
Dalam proses litografi dan pemrosesan basah, yang penting adalah waktu siklus dan pengendalian cacat. Sinar inframerah memungkinkan pengeringan wafer yang lebih cepat, menggunakan energi yang lebih sedikit per batch, dan rentang suhu yang lebih luas karena suhu dapat dikontrol dengan baik. Dengan demikian, kualitas fotoresist tetap konsisten, jumlah perbaikan berkurang, dan suhu tetap stabil meskipun jenis produk berbeda-beda.
Yang paling penting, sistem ini dirancang untuk beroperasi 24/7 selama bertahun-tahun. Umur elemen pemanasnya panjang, dan tingkat repetitivitasnya tetap baik setelah perawatan dilakukan. Tidak ada waktu henti yang tidak terduga.
Detail praktis yang perlu diperhatikan:
Penggunaan sinar inframerah dapat disesuaikan dengan kondisi pabrik, tetapi Anda perlu memastikan bahwa beban termalnya sesuai dengan kondisi yang ada. Ukuran perangkatnya cukup kompak, tetapi jangan abaikan masalah pendinginan. Kondisi lingkungan dan distribusi daya juga perlu diperhatikan dengan cermat.
Kami akan menyesuaikan ukuran pemanas dan sistem kontrolnya sesuai dengan diameter wafer serta kapasitas produksi Anda. Proses penyetelan awalnya akan membutuhkan waktu singkat agar parameter seperti laju pemanasan dan waktu pengeringan sesuai dengan kebutuhan fotoresist Anda.