Di ruang litografi, lapisan poliimida berperan penting dalam menjaga koneksi antar komponen elektronik agar tetap stabil. Jika ada gangguan suhu selama proses pemanasan, maka seluruh komponen tersebut akan rusak. Kami membangun sistem pemanasan khusus untuk menghindari risiko tersebut.
Hal yang perlu diperhatikan
Kami menjaga keseragaman suhu pada tingkat wafer sebesar ±0,1°C sepanjang proses pemanasan, mulai dari proses pemanasan awal hingga proses pengeringan akhir. Elemen inframerah berfrekuensi rendah digunakan untuk memanaskan wafer, bukan chambernya, sehingga jumlah partikel di ruang bersih tetap di bawah 0,1 per kaki kubik, sesuai standar Class 1–100. Tingkat repetibilitasnya mencapai ±0,5°C antar siklus, sehingga setiap proses pemanasan akan memberikan hasil yang sama.
Plat pemanas yang diperkuat dengan serat karbon dapat memanaskan wafer dengan cepat tanpa menyebabkan adanya titik panas. Sistem ini juga mencatat setiap siklus yang terjadi, sehingga memudahkan pelacakan proses produksi.
Mengapa sistem ini efektif dalam praktiknya
Proses pengeringan poliimida membutuhkan keseimbangan antara faktor termal dan stabilitas kimia. Sistem kontrol kami memastikan bahwa suhu selama proses pemanasan tetap berada dalam rentang yang tepat—tidak ada risiko pengeringan yang tidak sempurna yang menyebabkan kerusakan pada komponen elektronik, maupun risiko pengeringan yang berlebihan yang menyebabkan pelepasan gas. Dengan demikian, jumlah produk yang perlu direvisi menjadi lebih sedikit, limbah pun berkurang. Selain itu, proses produksi dapat berjalan secara lancar 24/7.
Penggunaan energi berkurang karena sistem ini dapat beroperasi dalam kondisi dingin saat tidak digunakan, sehingga biaya energi pun berkurang, tanpa mengganggu waktu proses produksi.
Apa yang perlu dipersiapkan
Platform ini dapat digunakan dalam jalur produksi yang sudah ada, tetapi Anda membutuhkan pasokan listrik 208 V, tiga fasa, serta sistem ventilasi yang sesuai standar ruang bersih. Siapkan waktu empat jam untuk proses penyetelan awal, dan satu hari penuh untuk pelatihan operator.
Plat pemanas tidak tahan terhadap guncangan mekanis saat proses pergantian komponen, jadi ikutilah petunjuk yang terdapat dalam manualnya. Jika salah satu baut dikencangkan terlalu kuat, hal tersebut dapat menyebabkan perubahan keseragaman suhu sebesar 0,2°C.