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		<title>Uniforme on Maximum Warmth Infrared Heaters</title>
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				<title>Secador de wafers com aquecimento uniforme</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-warm-max.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Secador de wafers com aquecimento uniforme&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na linha de produção, um &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;ponto&lt;/a&gt; quente de 0,1°C na superfície do wafer já é suficiente para prejudicar o controle da espessura das linhas gravadas. O fotorresistente, durante os processos de secagem, não leva em conta as intenções dos operadores – o valor térmico ou é mantido dentro dos limites estabelecidos, ou então é preciso fazer suposições. E essas suposições se traduzem rapidamente em problemas: resíduos de solvente, formação de películas na superfície do wafer, etc. Tudo isso acaba resultando em produtos inválidos.&lt;/p&gt;</description>
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