Secador de wafers por infravermelho próximo (NIR)

Mon, 08 Jun 2026 02:47:37 +0800

No piso de litografia, a linha continua em movimento independentemente de o perfil de bake estar ajustado ou não. A deriva no soft bake se manifesta como variação no CD. A não uniformidade do hard bake compromete a integridade do padrão, e a pastilha acaba pagando por cada grau que o controle térmico falha em atingir.
O que desenvolvemos e por que é relevante
Desenvolvemos o secador de pastilhas NIR baseado em aquecimento radiante no infravermelho próximo, sintonizado para transferir energia diretamente para o fotoresiste e substrato. O resultado é uma uniformidade a nível de pastilha mantida dentro de ±0,1°C, com perfis de temperatura repetíveis tanto no soft bake quanto no hard bake. Opera em salas limpas Class 1–100 sem aumentar a contagem de partículas, e não há emissão de partículas no ponto de aquecimento. A confiabilidade é projetada para operação 24/7, com nenhum tempo de inatividade não planejado em múltiplos turnos de produção.
Em uma fábrica de alto volume, estabilidade térmica é estabilidade do processo. Isso proporciona controle de CD mais rígido, menos lotes retrabalhados e desempenho de bake consistente lote após lote. O secador NIR reduz desperdício no orçamento térmico, encurta o tempo de ciclo e evita que a linha tenha paradas devido a excursões de temperatura. Seja em linhas de embalagem ou em nós avançados, isso se traduz em maior rendimento e utilização estável do equipamento.
O ponto com o NIR é: ele requer linha de visão direta para a pastilha e um caminho térmico limpo e refletivo. Sombras causadas por chucks ou fixações podem criar pontos frios localizados. Portanto, a integração deve ser planejada considerando a geometria do substrato, emissividade e interfaces da ferramenta. Uma vez que o alinhamento está correto, obtém-se bakes repetíveis, manutenção mínima e consumo energético previsível.

(NIR) on Maximum Warmth Infrared Heaters

Secador de wafers por infravermelho próximo (NIR)