Hoge kwaliteit plaatverwarmingslamp

Mon, 22 Jun 2026 19:16:14 +0800

Op de productieafdeling weet je hoe het gaat: een verschil van 1°C tijdens het bakproces kan er al voor zorgen dat cruciale dimensies met enkele nanometers veranderen. Dat is voldoende om urenlange werkzaamheden aan te tasten. Het opwarmen van de wafer draait niet alleen om het bereiken van een bepaalde temperatuur – het gaat ook om een reproduceerbare en uniforme controle die rekening houdt met de thermische eigenschappen van iedere laag.

Wat belangrijk is onder de motorkap
We gebruiken een lamp die gebruikmaakt van kortegolf-infrarode straling. Hierdoor wordt de hitte rechtstreeks op het oppervlak van de wafer gebracht, snel en efficiënt. Het systeem zorgt ervoor dat de temperatuur over het hele oppervlak van de wafer binnen ±0,1°C blijft, terwijl de stabiliteit van de temperatuur beter is dan ±0,05°C. De ruimte waarin de lamp zich bevindt, voldoet aan de vereisten van klasse 1–100: er worden materialen gebruikt die geen giftige stoffen afgeven, en er wordt gebruik gemaakt van een behuizing die voorkomt dat er meer dan 0,1 deeltjes per cm² ontstaan bij een grootte van 0,1 μm. Het is belangrijk om geen enkel deeltje in de buurt van de wafer te hebben – vooral tijdens het bakproces, want dan kan vuil zich vastzetten en blijvend schade veroorzaken.

Kwaliteit on Maximum Warmth Infrared Heaters

Hoge kwaliteit plaatverwarmingslamp