Infrarood versus convectorwarmte voor het drogen van wafers

Wed, 24 Jun 2026 01:10:12 +0800

Op de productielijn kan een wafer die net uit het eindproces komt, geen enkele hoeveelheid watermerken tolereren, zelfs niet één micrometer. Convectieovens proberen de temperatuurovergangen over het oppervlak van de wafer te beperken; elke poging om dit te bereiken heeft invloed op de kwaliteit van de producten. Infrarooddroging verandert deze situatie.

Wat technisch gezien echt belangrijk is
Infraroodstraling treft het water rechtstreeks, waardoor het oppervlak van de wafer wordt verwarmd, zonder dat er warmte in de lucht van de kamer wordt gepompt. Hierdoor wordt een thermische uniformiteit van ±0,1°C bereikt – geen problemen meer met de temperatuurverschillen tussen de randen en het midden van de wafer, zoals wel het geval is bij convectiesystemen. Kortegolfrugies stralen leveren snelle, gecontroleerde energie op, zodat er geschikte omstandigheden worden gecreëerd voor het drogen van de fotoresist. Mediumgolfrugies zijn geschikt wanneer je een hogere temperatuur nodig hebt, zonder dat dit tot ongewenste effecten leidt.

Convectie on Maximum Warmth Infrared Heaters

Infrarood versus convectorwarmte voor het drogen van wafers