Tinggi on Maximum Warmth Infrared Heaters

Pemanas udara untuk kilang dengan siling yang tinggi

Tue, 21 Jul 2026 02:18:22 +0800

Mengapa Pemanas Bilik Mandi Tidak Seharusnya Membuat Mata Anda Silau
Ketika kami merancang lampu inframerah untuk digunakan di bilik mandi, kami sebenarnya sedang berusaha menyelesaikan satu masalah besar: bagaimana untuk mendapatkan haba yang cukup tanpa membuat mata terasa silau, seolah-olah sedang memandang matahari secara langsung.

Kebanyakan pemanas jenis kuarsa menghasilkan cahaya yang sangat terang sehingga menyilaukan. Bagi orang dewasa, ini tentunya mengganggu. Bagi bayi yang memiliki mata yang sensitif, ini merupakan risiko keselamatan yang serius. Kami tidak mahu cahaya yang terlalu terang; yang kami inginkan hanyalah cahaya yang lembut dan selesa.

Lampu pemanas UHP (Ultra High Purity)

Sat, 18 Jul 2026 02:10:07 +0800

Mengawal Suhu Dalam Kilang Semikonduktor Menggunakan Cahaya Inframerah Berkuasa Tinggi

Jika anda mengendalikan kilang semikonduktor, anda pasti tahu bahawa suhu memainkan peranan yang sangat penting. Namun, dengan adanya “Kilang Pintar” ini, cara lama iaitu menggunakan kaedah pemanasan konvensional sudah tidak lagi mencukupi.

Ini bukan soal mengikuti trend semasa, tetapi lebih kepada penggunaan data untuk membuat keputusan yang tepat.

Mengapa Cahaya Inframerah Adalah Pilihan Terbaik

Dalam proses pengeluaran yang digital, kita tidak boleh membuang masa. Kita memerlukan sumber haba yang dapat bertindak segera setelah arahan diberikan. Inilah fungsi lampu inframerah. Daripada membuang masa untuk memanaskan udara di sekeliling wafer, cahaya inframerah akan menghantar haba secara langsung ke permukaan wafer. Sistem ini membolehkan suhu dikawal dengan tepat. Tidak perlu lagi berhadapan dengan masalah kelewatan pemanasan yang sering berlaku pada kaedah pemanasan konvensional.

Bulb pengering wafer yang berkecekapan tinggi

Thu, 02 Jul 2026 03:25:57 +0800

Di kawasan pembuatan wafer, perubahan suhu sebanyak 0.1°C semasa proses pembakaran lembut atau keras bukanlah perkara yang boleh diabaikan. Ia merupakan faktor yang menyebabkan penurunan kadar pengeluaran wafer yang berkualiti. Apabila keseragaman suhu terganggu, profil fotorezist akan berubah dengan cepat, dan ini akan menyebabkan peluang pembaziran bahan serta kerja-kerja pembaikan yang mahal. Lampu pengering wafer yang berkesan pula memastikan suhu kekal terkawal.

Kami menggunakan penjana inframerah gelombang pendek (NIR) untuk mengawal suhu pada tahap yang sangat tepat. Dengan cara ini, keseragaman suhu dapat dipertahankan di seluruh permukaan wafer, bukan hanya di bahagian tengahnya sahaja. Stabiliti suhu pada tahap yang ditetapkan juga dapat dicapai dengan mudah, sehingga profil pembakaran lembut dan keras tetap konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Keluaran lampu ini kekal stabil walaupun digunakan selama ribuan jam, sekali gus mengurangkan risiko perubahan suhu dan melindungi kualiti proses pengeluaran wafer.

Lampu pemanas wafer berkualiti tinggi

Mon, 22 Jun 2026 19:16:15 +0800

Di bilik pemprosesan yang canggih ini, anda tahu bagaimana keadaannya. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran lembut boleh menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal wafer sebanyak beberapa nanometer. Perubahan ini cukup untuk memusnahkan hasil kerja litografi yang telah diambil selama berjam-jam. Pemanasan wafer bukan sekadar tentang meningkatkan suhunya sahaja – ia juga melibatkan kawalan yang tepat dan konsisten, agar parameter termal setiap lapisan wafer tetap terjaga.

Apa yang penting dalam proses ini
Kami menggunakan lampu pemanas wafer yang menggunakan pengeluarkan sinar inframerah gelombang pendek (NIR). Lampu ini akan memanaskan permukaan wafer dengan cepat dan secara langsung. Sistem ini memastikan suhu wafer kekal stabil dalam lingkungan ±0.1°C di seluruh kawasan pemprosesan, manakala ketepatan suhu pula kekal melebihi ±0.05°C. Bilik pemprosesan juga direka agar bebas daripada zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer – iaitu kurang daripada 0.1 zarah/cm² pada ukuran 0.1 μm. Operasi tanpa zarah sama sekali sangat penting, terutamanya semasa proses pembakaran lembut atau keras, di mana kotoran boleh menetap pada wafer.