Mengeringkan on Maximum Warmth Infrared Heaters

Lampu pengeringan wafer secara borong

Tue, 07 Jul 2026 00:29:29 +0800

Pendahuluan
Kami mencipta lampu pengering wafer ini untuk bersaing dengan jenama-jenama terkemuka dari Amerika Syarikat dan Jepun. Ia memiliki prestasi yang setara, tetapi tanpa harga yang mahal. Tujuannya sangat mudah: memberikan haba dan kebolehpercayaan yang diperlukan dalam proses pengeringan wafer, sambil mengurangkan kos operasi. Ini merupakan penyelesaian yang ideal untuk mereka yang benar-benar menggunakan mesin ini. Anda memerlukan haba yang boleh diharapkan, bukan janji-janji kosong.

Butiran Teknikal
Proses pengeringan wafer memerlukan haba yang stabil dan kuat, tanpa merosakkan wafer itu sendiri. Lampu kami mampu memenuhi keperluan ini.

Lampu pengering wafer yang murah

Tue, 30 Jun 2026 01:46:00 +0800

Di lapangan, mesin pengering berhenti berfungsi kerana mentolnya rosak. Anda akan melihat kesan air pada wafer berukuran 300mm tersebut. Proses pembakaran juga menjadi tidak konsisten, dan jumlah zarah-zarah yang terhasil meningkat. Semua ini boleh membahayakan proses pengeluaran. Anda memerlukan mentol pengering yang kekal bersih, berfungsi dengan baik, dan pada masa yang sama mempunyai kos yang munasabah—tanpa mengorbankan kualiti hasil pengeluaran.

Apa yang penting di sebaliknya
Kami memilih mentol yang sesuai dengan keperluan suhu yang diperlukan dalam proses pengeluaran. Helium memberikan haba yang cepat dan stabil, serta kawalan spektrum yang tepat. Kestabilan suhu pada permukaan wafer adalah antara ±0.1°C, jadi dimensi penting pada wafer tidak akan terjejas.

Inframerah berbanding kaedah konveksi untuk pengeringan wafer

Wed, 24 Jun 2026 01:10:12 +0800

Di lantai pengeluaran yang canggih ini, wafer yang baru selesai proses pencucian tidak boleh mempunyai sebarang kesan air walaupun dalam ukuran mikron sahaja. Ketuhar konvektif pula berusaha untuk mengekalkan suhu yang seragam di seluruh permukaan wafer; setiap usaha tersebut akan mempengaruhi kualiti hasil pengeluaran. Pengeringan menggunakan sinar inframerah pula mengubah cara pengiraan ini.

Apa yang benar-benar penting dari segi teknikalnya
Sinar inframerah bertindak secara langsung pada air yang ada pada permukaan wafer, lalu memanaskan permukaan wafer tanpa memerlukan tenaga tambahan untuk memanaskan udara di dalam bilik pengeringan. Ini membolehkan suhu di seluruh permukaan wafer kekal seragam pada tahap ±0.1°C – tiada lagi masalah berkaitan perbezaan suhu antara bahagian tepi dan tengah wafer seperti yang berlaku pada sistem konvektif. Sinar inframerah berfrekuensi rendah memberikan tenaga yang cepat dan terkawal, sesuai untuk proses pembakaran fotoresist. Sinar inframerah berfrekuensi sederhana pula digunakan apabila diperlukan suhu yang lebih tinggi, tanpa menyebabkan masalah berlebihan.