Perché utilizzare l infrarosso per la lavorazione dei wafer

Fri, 26 Jun 2026 01:34:17 +0800

Sul piano di produzione, è possibile osservare direttamente cosa succede. La temperatura del wafer aumenta di 2°C, e il profilo termico del fotorestist cambia immediatamente. Successivamente si verificano errori di posizionamento, e la quantità di materiali scartati aumenta prima ancora che il processo di incisione abbia inizio. Ecco perché il riscaldamento a infrarossi non è semplicemente una scelta conveniente: è fondamentale per il controllo del processo.

Precisione del riscaldamento a infrarossi: uniformità e ripetibilità a livello sub-millimetrico
Il riscaldamento a infrarossi trasferisce energia direttamente sul wafer, con quasi nessuna inerzia termica. Questo permette di mantenere un controllo preciso della temperatura. Si ottiene così un’uniformità a livello sub-millimetrico su tutto lo strato del wafer, e un controllo preciso della temperatura in ogni ciclo di produzione. In pratica, ciò significa che i profili di riscaldamento rimangono costanti su tutto il wafer, evitando che le dimensioni critiche cambino. Il sistema ripete sempre lo stesso schema termico ad ogni ciclo di produzione: questa ripetibilità si riflette sia nei dati tecnici che nelle prestazioni effettive del processo.

Utilizzare on Maximum Warmth Infrared Heaters

Perché utilizzare l infrarosso per la lavorazione dei wafer