Lampada riscaldante per la rimozione dell umidità dai wafer

Sat, 06 Jun 2026 01:18:12 +0800

On the fab floor, l’umidità sulla superficie del wafer non resta ferma ad aspettare. Influenza i profili del photoresist, altera le dimensioni critiche e genera difetti irreparabili. Nei processi di litografia e trattamento del photoresist, il soft bake e l’hard bake non sono semplici cicli termici: sono estrazioni di umidità che determinano la resa.

Cosa conta sotto la superficie
Abbiamo progettato la lampada riscaldante per la rimozione dell’umidità dai wafer con elementi alogeni a infrarossi a onda corta (SWIR) inseriti in un involucro di quarzo, calibrati per un riscaldamento rapido e localizzato, garantendo uniformità a livello di wafer di ±0,1°C. Il sistema mantiene costantemente i setpoint per il bake del photoresist, consentendo di gestire il budget termico in modo preciso durante l’intero lotto. L’adattamento alla cleanroom è integrato nel design: materiali e costruzione conformi a Class 1–100 mantengono bassa la generazione di particelle, e l’assemblaggio della lampada è certificato per funzionare 24/7 senza fermi non pianificati. La stabilità dell’output è misurata, non stimata: le unità mantengono un’irradiazione costante per oltre 5.000 ore di funzionamento con una deriva inferiore al 5%.

Umidità on Maximum Warmth Infrared Heaters

Lampada riscaldante per la rimozione dell umidità dai wafer