Lampada di riscaldamento per wafer ad alta qualità

Mon, 22 Jun 2026 19:16:14 +0800

Sul piano di produzione, si sa come funzionano le cose: una variazione di temperatura di 1°C durante la fase di cottura può influenzare le dimensioni critiche dei componenti in modo significativo, e questo può compromettere ore di lavoro di litografia. Il riscaldamento del wafer non riguarda soltanto l’aumento della temperatura, ma anche un controllo preciso e uniforme, che rispetti i limiti termici di ogni strato.

Ciò che è importante
Utilizziamo lampade per il riscaldamento del wafer basate su emettitori a infrarossi a onde corte (NIR), progettate appositamente per questo scopo. Queste lampade rilasciano calore direttamente sulla superficie del wafer, in modo rapido e preciso. Il sistema garantisce una uniformità della temperatura entro ±0,1°C nell’intera zona di cottura; inoltre, la stabilità della temperatura rimane entro ±0,05°C. I materiali utilizzati sono conformi alle norme Class 1–100, e l’ambiente in cui avviene il processo è privo di particelle, con meno di 0,1 particella/cm² a 0,1 μm. Una riduzione totale delle particelle è fondamentale, soprattutto durante le fasi di cottura, poiché eventuali contaminazioni potrebbero diventare permanenti.

Qualità on Maximum Warmth Infrared Heaters

Lampada di riscaldamento per wafer ad alta qualità