Curing della poliimide per la fabbricazione di wafer

Fri, 19 Jun 2026 02:22:46 +0800

Nella sala di litografia, sono proprio gli strati di poliimide a mantenere insieme le componenti elettroniche avanzate. Un piccolo errore di temperatura durante la fase di cottura può rovinare tutto. Abbiamo progettato un sistema termico per la cura del poliimide, al fine di eliminare questo rischio.

Cosa è importante
Riusciamo a mantenere una uniformità termica pari a ±0,1°C su tutta la superficie del wafer, dalla fase iniziale di cottura fino alla fase finale. Gli elementi a infrarossi a breve lunghezza d’onda riscaldano il wafer stesso, non la camera di cottura; quindi, il numero di particelle presenti nella stanza rimane inferiore a 0,1 per piede cubo, anche nelle aree di classe 1–100. La ripetibilità delle operazioni è di ±0,5°C, così che ogni ciclo di cottura dia risultati costanti.

Polimide on Maximum Warmth Infrared Heaters

Curing della poliimide per la fabbricazione di wafer