Elemento riscaldante Oxford Instruments

Sat, 27 Jun 2026 01:35:48 +0800

Sul piano di produzione, la porta del forno si chiude e l’orologio inizia a contare i secondi. Le temperature necessarie per il processo di cottura devono rimanere costanti; qualsiasi variazione può causare errori nella qualità del prodotto, come imperfezioni sulla superficie del wafer o la formazione di strati residui. Quando il controllo termico fallisce, ne risentono sia la qualità del prodotto che i tempi di produzione.

Cosa è importante nel funzionamento del dispositivo
Abbiamo progettato l’elemento riscaldante di Oxford Instruments appositamente per i processi termici nei semiconduttori. Il design basato sul quarzo permette una risposta ai raggi infrarossi a breve lunghezza d’onda, permettendo così di raggiungere rapidamente la temperatura desiderata con una bassa inerzia termica. Nella zona di cottura, l’uniformità della temperatura sul wafer deve essere di ±0,1°C, e questa caratteristica rimane costante anche dopo più cicli di produzione. Il dispositivo funziona correttamente in ambienti di classe 1–100, e la sua struttura riduce al minimo la formazione di particelle. L’output rimane stabile per oltre 5.000 ore, con minimi scostamenti dalla temperatura desiderata.

Oxford on Maximum Warmth Infrared Heaters

Elemento riscaldante Oxford Instruments