Curazione on Maximum Warmth Infrared Heaters

Fabbrica di lampade per la cura a infrarossi certificate

Sun, 26 Jul 2026 13:04:41 +0800

Mantenere pulite le wafer quando qualcosa va storto
In una fabbrica ad alta intensità di lavoro, il guasto di una lampada rappresenta un vero incubo. Non si tratta soltanto di tempi di stop operativi: se il tubo di quarzo si rompe, i frammenti di vetro e i residui chimici finiscono direttamente sul silicio. Questo rappresenta un danno enorme per la qualità dei prodotti ottenuti.

Riflettore per lampada di essiccazione dei wafer

Wed, 22 Jul 2026 02:31:21 +0800

Come evitare che le lampade per la cottura delle wafer esplodano
Quando si tratta di cuocere le wafer, è fondamentale controllare con precisione la temperatura. Ma c’è un altro aspetto importante: quando costruiamo i riflettori e gli organi interni delle lampade, ci preoccupiamo non solo dell’aspetto estetico dei componenti, ma anche del distanza elettrica tra la lampada ad alta tensione e il telaio di riferimento.

Perché diamo tanta importanza ai test di resistenza elettrica
Non ci accontentiamo di effettuare semplici controlli su campioni. Ogni singola lampada viene sottoposta a test di resistenza alla tensione ad alta frequenza e di resistenza isolante, prima ancora che possa essere utilizzata. In pratica, testiamo l’isolamento utilizzando alte tensioni, per assicurarci che non vi siano perdite elettriche tra l’elemento riscaldante e il contenitore della lampada.
Perché? Perché anche una piccola crepa nel quarzo o un sigillo difettoso possono causare disastri. Se ciò accade, si può verificare un cortocircuito che potrebbe distruggere il controllore della macchina. O peggio ancora, la corrente potrebbe infiltrarsi nel contenitore delle wafer. Nessuno vuole affrontare una situazione del genere.

Curing della poliimide per la fabbricazione di wafer

Fri, 19 Jun 2026 02:22:46 +0800

Nella sala di litografia, sono proprio gli strati di poliimide a mantenere insieme le componenti elettroniche avanzate. Un piccolo errore di temperatura durante la fase di cottura può rovinare tutto. Abbiamo progettato un sistema termico per la cura del poliimide, al fine di eliminare questo rischio.

Cosa è importante
Riusciamo a mantenere una uniformità termica pari a ±0,1°C su tutta la superficie del wafer, dalla fase iniziale di cottura fino alla fase finale. Gli elementi a infrarossi a breve lunghezza d’onda riscaldano il wafer stesso, non la camera di cottura; quindi, il numero di particelle presenti nella stanza rimane inferiore a 0,1 per piede cubo, anche nelle aree di classe 1–100. La ripetibilità delle operazioni è di ±0,5°C, così che ogni ciclo di cottura dia risultati costanti.