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		<title>Asciugatrice on Maximum Warmth Infrared Heaters</title>
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				<title>Asciugatore a wafer _con riscaldamento uniforme</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-warm-max.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Asciugatore a wafer _con riscaldamento uniforme&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nella fase di essiccazione dei wafer, un differenziale di temperatura di 0,1°C sulla superficie del wafer è sufficiente per compromettere il controllo della larghezza delle linee da stampare. Il fotorestista, durante le fasi di essiccazione, non tiene conto delle intenzioni dell’operatore: o il bilancio termico viene rispettato, oppure si tratta di una stima approssimativa. Le stime, però, si manifestano rapidamente: solventi residui, impurità sulla superficie del wafer… E tutto questo si traduce in rifiuti.&lt;/p&gt;</description>
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