Lampu pemanas penghilang kelembaban wafer

Sat, 06 Jun 2026 01:18:13 +0800

Di lantai pabrik, kelembaban pada permukaan wafer tidak diam menunggu. Kelembaban ini mengganggu profil photoresist, mengacaukan dimensi kritis, dan memicu cacat yang tidak dapat diperbaiki ulang. Dalam proses litografi dan photoresist, soft bake dan hard bake bukan sekadar siklus pemanasan—melainkan ekstraksi kelembaban, dan faktor penentu hasil produksi.

Apa yang penting di balik proses

Kami merancang lampu pemanas penghilang kelembaban wafer dengan elemen halogen inframerah gelombang pendek (SWIR) dalam selubung kuarsa, yang dikalibrasi untuk pemanasan cepat dan lokal dengan keseragaman suhu pada level wafer sebesar ±0,1°C. Sistem ini mampu mempertahankan setpoint secara andal untuk proses photoresist bake, sehingga pengelolaan thermal budget dapat ditekan ketat di seluruh batch. Penyesuaian pada ruang bersih sudah menjadi bagian integral dari desain: material dan konstruksi memenuhi standar kelas 1–100 untuk meminimalkan partikel, dan rakitan lampu dinilai mampu beroperasi 24/7 tanpa downtime tak terduga. Stabilitas output diukur secara kontinu, bukan perkiraan—unit mempertahankan radiasi yang konsisten selama 5.000+ jam operasi dengan penurunan kurang dari 5%.

Kelembapan on Maximum Warmth Infrared Heaters

Lampu pemanas penghilang kelembaban wafer