Cure de la polymère d imide pour la fabrication de wafers

Fri, 19 Jun 2026 02:22:46 +0800

Dans la salle de lithographie, ce sont les couches de polyimide qui permettent de maintenir ensemble les composants électroniques complexes. Un petit changement de température pendant le processus de durcissement peut entraîner des dégâts importants. Nous avons conçu notre système de chauffage spécialement pour éviter ce risque.

Ce qui est important Nous parvenons à maintenir une uniformité thermique de ±0,1 °C sur l’ensemble de la surface de la pâte photorésistive, du début jusqu’à la fin du processus de durcissement. Les éléments à rayonnement infrarouge à courte longueur d’onde chauffent la pâte photorésistive elle-même, et non la chambre elle-même. Ainsi, le nombre de particules présentes dans la salle propre reste inférieur à 0,1 par pied cube, conformément aux normes de classe 1–100. La répétabilité est de ±0,5 °C d’un cycle à l’autre, ce qui garantit que chaque cycle de traitement donne les mêmes résultats.

Polyimide on Maximum Warmth Infrared Heaters

Cure de la polymère d imide pour la fabrication de wafers