Sèche wafer infrarouge proche (NIR)

Mon, 08 Jun 2026 02:47:37 +0800

Sur la ligne de lithographie, la production ne s’arrête pas que votre profil de cuisson soit optimisé ou non. Une dérive de la cuisson douce se manifeste par une dispersion du CD. Une non-uniformité lors de la cuisson dure compromet l’intégrité du motif, et la plaquette subit chaque degré d’écart du contrôle thermique.
Ce que nous avons développé, et pourquoi c’est important
Nous avons conçu le sècheur de plaquettes NIR autour d’un chauffage par rayonnement proche infrarouge, calibré pour injecter l’énergie directement dans le photoresist et le substrat. Le résultat est une uniformité au niveau de la plaquette maintenue dans ±0,1°C, avec des profils thermiques reproductibles aussi bien pour la cuisson douce que pour la cuisson dure. Il peut fonctionner dans des salles blanches de classes 1 à 100 sans augmentation du nombre de particules, et aucune émission particulaire n’est détectée au point de chauffage. La fiabilité est assurée pour un fonctionnement 24/7, sans arrêt non planifié sur plusieurs équipes de production.
Dans une usine à haut débit, la stabilité thermique est synonyme de stabilité du procédé. Cela se traduit par un contrôle plus strict du CD, moins de lots en retouche, et un comportement constant des performances de cuisson lot après lot. Le sècheur NIR réduit le gaspillage du budget thermique, raccourcit les temps de cycle, et évite que la production soit affectée par des écarts de température. Que vous exploitiez des lignes d’assemblage packaging ou que vous travailliez sur des nœuds avancés, cela se traduit par un rendement plus élevé et une utilisation régulière des équipements.
Voici la particularité du NIR : il nécessite une ligne de vue directe vers la plaquette et un chemin thermique propre et réfléchissant. Les ombres portées par les pinces ou supports peuvent créer des zones froides localisées. Il faut donc planifier l’intégration en fonction de la géométrie du substrat, de son émissivité et des interfaces avec les outils. Une fois l’alignement correctement réalisé, on obtient des cuissons reproductibles, une maintenance réduite et une consommation d’énergie prévisible.

(NIR) on Maximum Warmth Infrared Heaters

Sèche wafer infrarouge proche (NIR)