Lámpara calefactora para eliminación de humedad de obleas

Sat, 06 Jun 2026 01:18:12 +0800

En el piso de fabricación, la humedad en la superficie del wafer no se queda esperando. Afecta los perfiles de fotoresistente, altera las dimensiones críticas y genera defectos que no se pueden retrabajar. En los procesos de litografía y fotoresistencia, el soft bake y el hard bake no son solo ciclos térmicos; son extracción de humedad y determinan el rendimiento.

Lo que importa bajo el capó
Diseñamos la lámpara calefactora para eliminación de humedad en wafer con elementos halógenos infrarrojos de onda corta (SWIR) en una envoltura de cuarzo, calibrada para un calentamiento rápido y localizado con uniformidad a nivel de wafer de ±0.1°C. El sistema mantiene los puntos de ajuste de forma confiable para el horneado de fotoresistente, permitiendo controlar estrictamente el presupuesto térmico en todo el lote. La adecuación para salas limpias está integrada en el diseño: materiales y construcción conformes a clase 1–100 que mantienen baja generación de partículas, y el conjunto de la lámpara está calificado para operar 24/7 sin tiempos muertos no planificados. La estabilidad de salida se mide, no se estima: las unidades mantienen irradiancia constante durante más de 5,000 horas de operación con una deriva inferior al 5%.

Humedad on Maximum Warmth Infrared Heaters

Lámpara calefactora para eliminación de humedad de obleas