Einzellötende Wafeldroger mit gleichmäßiger Erwärmung

Tue, 23 Jun 2026 13:13:21 +0800

Auf der Fertigungsstraße reicht bereits eine Temperaturdifferenz von 0,1 °C auf der Wafer-Oberfläche aus, um die Kontrolle über die Linienbreite zu stören. Der Fotolack während des Weich- und Hartbrennens kümmert sich nicht um die Absichten – entweder wird das thermische Gleichgewicht erreicht oder es bleibt alles dem Zufall überlassen. Und der Zufall zeigt sich schnell in Form von Restlösungsmitteln, Ablagerungen oder anderen Problemen. Das führt wiederum dazu, dass die Wafer als Ausschuss enden.

Was technisch wichtig ist
Wir haben den Trockner für Wafer so konstruiert, dass eine Temperaturregelmäßigkeit von ±0,1 °C auf der Wafer-Oberfläche gewährleistet wird. Der Heizer arbeitet mit kurzwelligem Infrarotlicht – dadurch reagiert er schnell und lokal. Dadurch bleibt die Temperatur unter Kontrolle, ohne dass nachträglich korrigiert werden muss. In Reinräumen der Klasse 1–100 ist die Geometrie des Raums sowie die Luftzirkulation so gestaltet, dass Turbulenzen vermieden werden und keine Partikel entstehen. Durch die geschlossene Regelungsschleife mit kalibrierten Sensoren wird sichergestellt, dass jedes Mal das gleiche thermische Profil erreicht wird.

Uniform on Maximum Warmth Infrared Heaters

Einzellötende Wafeldroger mit gleichmäßiger Erwärmung