Hochwertige Heizlampe für Wafer

Mon, 22 Jun 2026 19:16:14 +0800

Auf der Produktionsebene gilt: Jede Veränderung von 1°C während des Weichbrennvorgangs kann dazu führen, dass kritische Abmessungen um Nanometer verändert werden – und das reicht aus, um Stunden an Arbeit im Bereich der Lithografie zunichte zu machen. Die Erwärmung des Wafer bedeutet nicht nur, ihn heiß zu machen – es geht vielmehr um eine wiederholbare, gleichmäßige Kontrolle, die den thermischen Bedarf jeder Schicht berücksichtigt.

Was wirklich wichtig ist:
Wir verwenden eine Waferheizlampe, die auf Kurzwellen-Infrarotstrahlern basiert. Dadurch wird die Wärme direkt auf die Oberfläche des Wafer übertragen – schnell und effektiv. Das System sorgt dafür, dass die Temperatur im Bereich des Wafer innerhalb von ±0,1°C konstant bleibt; die Stabilität der Setpunkttemperatur liegt bei besser als ±0,05°C. Zudem wird durch geeignete Materialien sowie einen Gehäuseaufbau eine Partikelbelastung von unter 0,1 Partikel/cm² bei 0,1 μm gewährleistet. Eine Partikelfreie Arbeitsumgebung ist besonders wichtig – insbesondere während des Weich- und Hartbrennvorgangs, bei denen Verunreinigungen fest in die Struktur des Wafer eindringen können.

Qualität on Maximum Warmth Infrared Heaters

Hochwertige Heizlampe für Wafer