Üretim alanlarında, son yıkama işleminden çıkan waferlerde en ufak bir su izi bile kabul edilemez. Konvektif fırınlar, yüzeydeki sıcaklık farklarını azaltmak için sürekli çalışır ve her bir bu işlem üretim verimliliğini etkiler. Kızılötesi kurutma yöntemi ise bu durumu değiştirir.
Teknik açıdan asıl önemli olan şeyler: Kızılötesi ışınlar suya doğrudan etki eder ve böylece wafer yüzeyini ısıtır; ancak oda havasına ısı yayılmaz. Böylece waferin yüzeyinde ±0,1°C içinde termal bir düzgünlük sağlanır. Konvektif sistemlerin karşılaştığı kenar-merkez eşitsizlikleri artık sorun olmaz. Kısa dalga boylu kızılötesi ışınlar, hızlı ve kontrollü bir şekilde enerji sağlar; bu da fotoresist malzemelerinin zarar görmemesini sağlar. Orta dalga boylu kızılötesi ışınlar ise daha yüksek sıcaklık gerektiren durumlarda kullanılır ve aşırı ısınmayı engeller.
Ayrıca bu sistemler, Cleanroom sınıfları 1–100 için tasarlanmıştır: Partikül üretimi yoktur, kapalı kuvars veya halojen elemanlar kullanılır ve hava akışının düzenlenmesi sağlanır. Tekrarlanabilirlik sadece bir slogan değildir; vardiyalar arasında bile 0,3°C’den daha az bir fark olur.
Neden litografi ve ıslak işlemler için uygundur? Litografi ve ıslak işlemlerde önemli olan şeyler, işlem süresi ve hata kontrolüdür. Kızılötesi kurutma yöntemi waferleri daha hızlı kurutur, her parti için daha az enerji kullanır ve sıcaklık ayarlanabilir olduğundan işlem penceresi genişler. Böylece tutarlı bir fotoresist pişirme performansı elde edilir, yeniden işlemler azalır ve ürün çeşitliliği ne olursa olsun sabit bir termal denge sağlanır.
En önemlisi, bu sistem yıl boyunca 7×24 saat çalışacak şekilde tasarlanmıştır; uzun ömürlü elemanlar ve bakım sonrasında bile devam eden tekrarlanabilirlik özellikleri vardır. Planlanmadık arızalar olmaz.
Dikkat edilmesi gereken pratik detaylar: Kızılötesi kurutma sistemi hatlara uyumlu hale getirilebilir, ancak termal yükleri dengeli hale getirmek ve entegrasyonu planlamak gerekir. Alan küçük olsa da ısı dağılımına dikkat edilmelidir; aksi takdirde çevre koşulları ve güç dağılımı sorun yaratabilir.
Ekipman markanız ve Cleanroom koşullarına göre hareket ederiz ve ısıtıcı ile kontrol devrelerini waferinizin çapına ve üretim hızına göre ayarlarız. Fotoresist malzemeleriniz için uygun ayarların yapılmasıyla kısa bir test süreci gerekecektir.