บนพื้นโรงงานเวเฟอร์ คุณเข้าใจดีว่าความคลาดเคลื่อนเพียงครึ่งองศาในโปรไฟล์การอบ soft-bake จะทำให้ความเบี่ยงเบนของมิติที่สำคัญ (critical dimension bias) ผิดพลาดจนต้องคัดแยกล็อตงานทั้งล็อต เราได้พัฒนาหลอดไฟสำหรับอบโฟโต้เรซิสต์นี้ขึ้นมาเพื่อลดตัวแปรดังกล่าวออกไปจากกระบวนการ มันส่งความร้อนที่ทำซ้ำได้ตรงจุดที่เรซิสต์ต้องการ ในเวลาที่ต้องการ โดยไม่เพิ่มความเสี่ยงจากฝุ่นหรือสัญญาณรบกวนทางความร้อน
สิ่งที่สำคัญภายในระบบ
ระบบใช้ตัวปล่อยแสงฮาโลเจนอินฟราเรดคลื่นสั้นที่บรรจุในซองควอตซ์ ปรับความถี่ให้ตรงกับแถบการดูดซับของโฟโต้เรซิสต์ เพื่อให้เกิดการให้ความร้อนบนผิวหน้าอย่างรวดเร็ว ภายในโซนอบ ความสม่ำเสมอที่ระดับเวเฟอร์อยู่ที่ ±0.1°C ทำให้โปรไฟล์จากขอบถึงศูนย์กลางคงที่อย่างต่อเนื่องในแต่ละล็อต ระบบรองรับการใช้งานในห้องคลีนรูมระดับ Class 1–100 ได้อย่างเหมาะสม เนื่องจากมีโมดูลหลอดไฟที่ปิดผนึก ใช้วัสดุที่ปล่อยก๊าซต่ำ และมีทางระบายอากาศที่ควบคุมการเกิดฝุ่นให้เป็นศูนย์ ความสามารถในการทำซ้ำถูกกำหนดไว้ที่ ±0.2°C ตลอดระยะเวลาการทำงานกว่า 5,000 ชั่วโมง พร้อมทั้งมีการตรวจสอบเอาต์พุตอย่างต่อเนื่องเพื่อป้องกันการเปลี่ยนแปลงงบประมาณความร้อน
เหตุผลที่ระบบนี้ทำงานได้ดีในชุดลิโธกราฟีคือ การอบ soft bake และ hard bake ไม่ใช่เรื่องเดาอีกต่อไป คุณจะได้การกำจัดตัวทำละลายที่สม่ำเสมอ ความหนืดที่คงที่ และความกว้างเส้นที่คาดการณ์ได้ ซึ่งเป็นปัจจัยที่ส่งผลโดยตรงต่ออัตราผลิตได้ (yield) หลอดไฟเร่งความร้อนได้รวดเร็วโดยไม่มีการเกินเป้า ทำให้เวลาวงรอบลดลงโดยไม่ต้องตามแก้ไขความผันผวนของอุณหภูมิ การอบที่เสถียรส่งผลให้จำนวนงานเสียและงานแก้ไขลดลง
การใช้พลังงานอยู่ในระดับที่เหมาะสมด้วยการให้ความร้อนตามความต้องการและการเชื่อมต่อความร้อนที่มั่นคง โมดูลมีความน่าเชื่อถือสูงช่วยให้ระบบทำงานได้ตลอด 24/7 โดยไม่มีเวลาหยุดทำงานโดยไม่คาดคิด
หมายเหตุเชิงปฏิบัติ: การจับคู่หลอดไฟกับอินเทอร์เฟซความร้อนของเครื่อง coat/track เป็นเรื่องสำคัญ ก่อนการติดตั้งควรตรวจสอบแรงดันไฟฟ้า ประเภทของตัวเชื่อมต่อ และระยะห่างในการติดตั้ง รวมถึงยืนยันเส้นทางระบายอากาศเพื่อไม่ให้ระบบทำให้ความดันในห้องคลีนรูมเปลี่ยนแปลง พื้นผิวของตัวปล่อยแสงมีความไวต่อการปนเปื้อน ดังนั้นควรรักษาการบำรุงรักษาป้องกันตามตารางกำหนดไว้ มิฉะนั้น ความสม่ำเสมอและความแม่นยำของอุณหภูมิจะเปลี่ยนแปลงไปตามเวลา