왜 청정실 오븐에서는 강제 대류 방식 대신 적외선 방식을 사용하는가?
반도체 처리 과정에서 가장 중요한 것은 바로 시간 절약입니다.
대부분의 사람들은 강제 대류 방식에 익숙해 있지만, 문제는 그 방식이 너무 느리다는 것입니다. 결국 엄청난 양의 공기를 가열한 다음, 그 공기가 웨이퍼까지 도달하기를 기다려야 합니다. 이는 매우 비효율적인 방법입니다.
적외선 방식은 그러한 중간 단계를 생략합니다. 방 전체를 가열하는 대신, 에너지를 직접 웨이퍼에 전달합니다.
속도 향상
일반적인 청정실 오븐에서는 공기가 적절한 온도에 도달할 때까지 기다려야 하고, 그 후에도 그 열이 웨이퍼에 전달될 때까지 또 기다려야 합니다. 이는 많은 시간이 소요되는 작업입니다.
반면 적외선 히터는 즉시 목표물에 열을 전달합니다.
예를 들어, 30분이 걸리던 작업을 5분으로 단축할 수 있다면, 대량 생산 환경에서는 큰 이점이 됩니다. 더 큰 청정실을 만들 필요 없이 하루에 더 많은 작업을 처리할 수 있습니다.
어려운 점
그렇다고 해서 그냥 팬을 제거하고 적외선 램프만 설치하면 되는 것은 아닙니다. 열 부하를 잘 고려해야 합니다.
적외선 에너지가 매우 집중되어 있기 때문에, 반사판의 위치가 조금만 잘못되어도 과열이 발생할 수 있습니다. 또한 온도가 빠르게 변화함에 따라 이를 조절할 수 있는 PID 컨트롤러가 필요합니다.
일반적인 공기 오븐과 달리, 적외선 오븐은 거리가 매우 중요합니다. 방출 장치가 웨이퍼와 너무 가까우면 웨이퍼가 손상될 수 있습니다. 다소 정밀한 조절이 필요하지만, 그만한 가치가 있습니다.
청결 유지
가장 좋은 점은 더 이상 난기류가 발생하지 않는다는 것입니다.
고속 팬은 먼지와 이물질을 날리는 역할을 합니다. 반면 적외선은 고정된 상태에서 작동하기 때문에, 먼지나 이물질이 발생하지 않습니다.
따라서 HEPA 필터도 그다지 열심히 작동할 필요가 없습니다. 더 조용하고 깨끗한 환경을 얻을 수 있으며, 작업 속도도 훨씬 빨라집니다. 생산량을 늘리고 처리 시간을 단축하고 싶다면, 이 방법이 최선입니다.